當(dāng)儀器發(fā)射的 X 射線照射到樣品表面時(shí)，鍍層及基體材料中的原子會(huì)吸收 X 射線的能量，使內(nèi)層電子被激發(fā)并躍遷到高能級(jí)。當(dāng)這些電子回到低能級(jí)時(shí)，會(huì)釋放出具有特定能量的熒光 X 射線。不同元素發(fā)射的熒光 X 射線能量不同，通過檢測這些熒光 X 射線的能量和強(qiáng)度，結(jié)合儀器內(nèi)置的校準(zhǔn)曲線和算法，就可以精確測量出鍍層的厚度以及元素組成。

FISCHERSCOPE X-RAY XULM 240：常用于無損測量細(xì)小工件上的鍍層厚度和材料分析，適用于對十分微小零部件、接插件和線材的鍍層測量，以及印刷電路板上的手動(dòng)測量、珠寶和手表業(yè)中的測量等